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研磨、抛光及珩磨耗材

研磨、抛光及珩磨耗材


产品分类: 耗材
产品描述:

Lapmaster Wolters提供用于平面研磨、抛光加工及内孔表面加工的各种规格的传统磨料、金刚石磨料、抛光液、研磨膏、抛光布、油石条及金刚石铰刀等耗材。产品可广泛应用于各类金属和非金属材料的加工。

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AC535
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PETER WOLTERS AC 535 双面批量加工设备是针对高精密系列工件加工而设计。设备采用模块化设计,可作为精磨机、研磨机、珩磨机、去毛刺机及抛光机使用。

MICRON-MACRO-L
MICRON-MACRO-L

“Macro”系列采用创新的(MWH)设计理念。所有定位及精磨时的线性动作均由精磨头实现。与传统的立柱移动和工作台移动不同,本机各轴采用紧凑结构,可实现较好受力分布及较小的受热变化,这些特性使得设备实现长期、较好的加工控制。

AC700-D
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为了实现在一个工序中完成双面去毛刺加工,LAPMASTER WOLTERS开发了一种新的设备,为Microline® AC 700提供了一个专利解决方案。转换成为可以进行去毛刺加工的双面精密磨床非常容易,只需将精密砂轮换成刷轮,并且停用中心测量控制。这意味着精密磨床基本上适用于去毛刺,同时也可以用作一台组合机器。专利解决方案,新开发的设备可在同一步骤中完成双面去毛刺。

DSC 1000-F
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双端面抛光机可加工工件尺寸至290 MM 直径、50MM 厚度。

AC400
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PETER WOLTERS AC 400 双端面批量加工设备是针对高精密系列工件加工而设计。设备采用模块化设计,可作为精磨机、研磨机、珩磨机、去毛刺机及抛光机使用。

检测仪器
检测仪器

光学平面莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用新技术加工而成。光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。单色光检测仪莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2

24寸普通型研磨机
24寸普通型研磨机

24是Lapmaster研磨机系列里体积较小的落地式研磨机。是对平面度和光洁度有非常高要求的工厂的理想选择。该设备标准配置用于使用松散研磨剂。根据客户要求,也可增选配置用于水和金刚石乳液。研磨盘及工件平面度可通过调整修整环在研磨盘上的位置进行修整。研磨盘驱动系统采用独立电机及涡轮涡杆减速机和皮带传动。该设备可加工各种材料包括半导体、光学镜片、陶瓷、金属及许多其他特殊产品。该落地式设备可选用气动选配

DW 288 S6
DW 288 S6

工件尺寸较大直径 6 英寸 ×650 毫米针对大批量 6 英寸晶圆生产优化设计

DSG720
DSG720

DSG720双面精磨机运行系统依据3-way行星原理设计,性价比高,加工精确稳定。加工材料及工件范围广泛,包括玻璃、陶瓷、水晶和金属等。DSG720双面精磨机广泛应用于工件的平面加工,可为工件严苛的精度和公差要求提供较好的解决方案。平面度:<1μm*工件一致性公差:<4μm*平行度:<3μm*表面光洁度:<0.25μm*切削率:0.6mm*