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检测仪器

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产品分类: 耗材
产品描述:

光学平面

莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用最新技术加工而成。

光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。

单色光检测仪

莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2



光学平面
莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用最新技术加工而成。
光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。
单色光检测仪
莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2
平面度检测仪
莱玛特平面度检测仪可以方便快捷的对研磨盘、抛光盘及其它大型工件的平面度进行检测。型号有FG-5 FG-7 FG-9
SPI激光干涉仪
莱玛特SPI激光干涉仪可以直接对研磨后的工件进行平面度检测仪,有SPI75和SPI130两种型号可供选择
  • 设备特点
    光学平面
    莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用最新技术加工而成。
    光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。
    单色光检测仪
    莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2
    平面度检测仪
    莱玛特平面度检测仪可以方便快捷的对研磨盘、抛光盘及其它大型工件的平面度进行检测。型号有FG-5 FG-7 FG-9
    SPI激光干涉仪
    莱玛特SPI激光干涉仪可以直接对研磨后的工件进行平面度检测仪,有SPI75和SPI130两种型号可供选择

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检测仪器
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光学平面莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用最新技术加工而成。光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。单色光检测仪莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2

24寸普通型研磨机
24寸普通型研磨机

24是Lapmaster研磨机系列里体积最小的落地式研磨机。是对平面度和光洁度有非常高要求的工厂的理想选择。该设备标准配置用于使用松散研磨剂。根据客户要求,也可增选配置用于水和金刚石乳液。研磨盘及工件平面度可通过调整修整环在研磨盘上的位置进行修整。研磨盘驱动系统采用独立电机及涡轮涡杆减速机和皮带传动。该设备可加工各种材料包括半导体、光学镜片、陶瓷、金属及许多其他特殊产品。该落地式设备可选用气动选配

导轨磨设备
导轨磨设备

可磨削工件长度从1米起,最长可达6米、机型多样性:SLM 2002\SLM4002\SLM6002、可配置2磨头结构或者3磨头结构、可以磨削:导轨两侧轮廓和导轨底面

研磨、抛光及珩磨耗材
研磨、抛光及珩磨耗材

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AC700
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SS-24H研磨机
SS-24H研磨机

SS-24H研磨机是Lapmaster研磨机系列里体积最小的落地式研磨机。是对平面度和光洁度有非常高要求的工厂的理想选择。带槽研磨盘,直径610mm,HT300灰铸铁材质,符合ISO185(2005)认证。可根据客户要求提供其他类型的研磨盘。

AC2000-P3-PPG
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半导体行业的定制解决方案LAPMASTER WOLTERS 是半导体客户在硅片及LED硅片加工领域内众所周知的、可靠的合作伙伴。 LAPMASTER WOLTERS为客户提供定制的硅片和基质精密表面加工技术解决方案。服务领域为用于微电子、微光学和微机械设备制造的硅片、蓝宝石、砷化镓、碳化硅等材料。我们的研磨、精磨和抛光机加工后工件的局部和整体几何形状均具有领先优势。“LAPMASTER WOLTE